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  • 高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV
    高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介:高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV是由九通道質(zhì)量流量控制器和高真空機(jī)組組成的CVD系統(tǒng),其爐管直徑為4″,溫度可達(dá)1200℃,極限真空可達(dá)10-5torr,混氣系統(tǒng)可對(duì)1-9種氣體進(jìn)行精確的混合,然后導(dǎo)入管式爐內(nèi)部,可用來(lái)研究氣體環(huán)境對(duì)材料的影響

    更新時(shí)間:2024-03-12型號(hào):瀏覽量:188
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  • 高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV
    高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介:高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成,可進(jìn)行半導(dǎo)體基片、太陽(yáng)能電池及其它樣品(尺寸可達(dá)3″)的退火,并采用10KW的紅外燈進(jìn)行加熱,升溫速度可達(dá)120℃/s,配有RS485接口,可以通過(guò)控制軟件在計(jì)算機(jī)上控制運(yùn)行并顯示溫度曲線(xiàn)

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  • 高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV
    高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介:高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成,工作溫度可達(dá)1200℃,混氣系統(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行精確的混氣,然后導(dǎo)入管式爐內(nèi)部,本系統(tǒng)極限真空度可達(dá)10-5torr

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  • 帶滑動(dòng)法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV
    帶滑動(dòng)法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介:帶滑動(dòng)法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加熱至1200℃,并通過(guò)調(diào)整三個(gè)溫區(qū)而建立不同梯度的熱場(chǎng),可進(jìn)行退火、擴(kuò)散、在不同氣氛中燒結(jié)樣品及CVD等實(shí)驗(yàn)

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  • 1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV
    1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介:1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成,工作溫度可達(dá)1600℃,混氣系統(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行精確的混氣,然后導(dǎo)入管式爐內(nèi)部,本系統(tǒng)極限真空度可達(dá)10-5torr

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  • 1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV
    1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介:1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV是由單溫區(qū)管式爐、三路浮子混氣系統(tǒng)和雙旋片式真空泵組成,工作溫度可達(dá)1700℃,混氣系統(tǒng)可以對(duì)三種氣體進(jìn)行精確的混氣,真空度可達(dá)5×10-2torr

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